Kundenspezifische Plasmaätzanlage für Prozessentwicklung

Aufbau und Inbetriebnahme einer RF-Plasmaätzanlage mit unterstützender Ionenquelle. Das System dient als Prototyp für den Nachweis der Machbarkeit der Kombination von Abscheidung und Entfernen von DLC-Schichten. In einem ersten Schritt wird eine Ätzfunktion auf RF Basis, unterstützt durch eine zusätzliche Ionenquelle, implementiert und getestet. In einem späteren Schritt soll das System mit einer Sputterquelle und weiteren Komponenten erweitert werden. Damit wird die Abscheidung von DLC-Schichten ermöglicht.

Modifikationen

  • Konstruktion und Bau des Systems. Kammer und Komponenten wurden vom Kunden miteingebracht.
  • Inbetriebnahme
  • Systemsteuerung durch ATLAS
  • Konstruktion und Integration Prototyp Ionenquelle (Ionitron)

 

 

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