Planung und Realisierung eines Hochvakuum-Lötofensystems

Das System umfasst drei Hochvakuum-Ofenkammern mit verschiedenen Temperaturbereichen. 

Das erste Teilsystem besteht aus einer Ofenkammer für Temperaturen bis 1300°C und einem weiteren Rezipienten für Kleinchargen mit Temperaturen bis zu 2500°C. Eine gemeinsames Pumpsystem mit Diffusionspumpe erzeugt das Vakuum.

Das zweite Teilsystem besteht aus einer baugleichen Ofenkammer für Temperaturen bis 1300°C. Ein ölfreies Pumpsystem ermöglicht Lötungen für betreffend Reinheit empfindlichere Bauteile.

Das ganze System wird von einem einzelnen Elektroschrank gespiesen und mit ATLAS gesteuert. Für den Transport lässt sich das System mit wenigen Handgriffen trennen. 

Modifikationen

  • Design/Konstruktion Rezipient
  • Definition Pumpsysteme
  • Planung und Realisation von Elektrifizierung und Automation
  • Definition Heizelement mit externem Hersteller
  • Auslegung Kühlsystem
  • Systemsteuerung durch ATLAS

 

Das System ist ausgeliefert und beim Kunden in Betrieb.

 

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